第12週 | 砂からチップへ ①

CMOSができるまで(フルプロセス・全36ステップ)

第8〜10週のNMOS・PMOSを、実際に作ってみます。フォトリソの6ステップを一切省かずくり返すので長いですが、それこそが「チップ作りはこんなに手間がかかる」という実感です。
「次へ」で1ステップずつ、章タブで大工程ごとにジャンプできます。

シリコン基板(ウェハ) pウェル nウェル ゲート ゲート PMOS側を保護 NMOS側を保護 n+ n+ p+ p+ ↓ 不純物を打ち込む ゲートの影=注入されない ゲートの影=注入されない 層間絶縁膜 ゲート ゲート GND 電源 出力(ドレイン同士) 入力(ゲート同士) NMOS PMOS
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基板 pウェル nウェル 保護膜 レジスト ポリシリコン ゲート酸化膜 ゲート電極 n+ p+ 絶縁膜 配線